而到了今天,西方攻克了14纳米芯片后,已经把目光看向了7纳米芯片,自然而然的,20纳米duv光刻机就被放开了。
米国目的很明显,允许你用,但不允许你超越。
越是害怕,越会提防,因为龙国才脱离战争不到三十年,就发展到了世界第二大经济体,再给发展三十年会怎么样?
沉睡的雄狮,东方的巨龙,它们哪敢不防?
陈星虽然是商人,但同时也是位龙国商人,如果能在自家搞出14纳米芯片,那他还是愿意多支付一些流片费用的。
毕竟曲程也说了,之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程,资金和土地都进入了最终的批准环节。
“说说使用这个多重曝光技术,流片要多少钱?”
陈星表明自己态度。
林天得到确切的答复后,述说自己的想法道:
“光刻多重曝光技术,说通俗直白一点就是,原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产,现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制,将它拆分多块,每一块都有相对应的电路图案。”
“比如我们要做14纳米芯片,可以把设计的芯片电路图案拆开,就得到了两份28纳米间隔的电路图案,分两次把它们刻在硅片上,就会形成完整的14纳米芯片电路图案,就类似于我们龙国的太极图,一阴一阳互补的意思。”
“因为是两块芯片掩膜版,所以要给双倍的流片费用。”
陈星大致听明白了,这个多重曝光技术就相于要印刷一个ab字母的组合图案。
第一步先把ab拆开,得到a与b两個图案,然后将它们分别制作光掩膜版,紧接着用第一块a字母的掩膜版在硅片上刻了a,再用b字母的掩膜版在硅片上刻上b,最终得到所需要的ab组合图案。
八个字概括就是,精度不够,工序来凑。
“要花两倍的流片费用,高总,14纳米的……”