而到了今天，西方攻克了14纳米芯片后，已经把目光看向了7纳米芯片，自然而然的，20纳米duv光刻机就被放开了。
米国目的很明显，允许你用，但不允许你超越。
越是害怕，越会提防，因为龙国才脱离战争不到三十年，就发展到了世界第二大经济体，再给发展三十年会怎么样？
沉睡的雄狮，东方的巨龙，它们哪敢不防？
陈星虽然是商人，但同时也是位龙国商人，如果能在自家搞出14纳米芯片，那他还是愿意多支付一些流片费用的。
毕竟曲程也说了，之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程，资金和土地都进入了最终的批准环节。
“说说使用这个多重曝光技术，流片要多少钱？”
陈星表明自己态度。
林天得到确切的答复后，述说自己的想法道：
“光刻多重曝光技术，说通俗直白一点就是，原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产，现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制，将它拆分多块，每一块都有相对应的电路图案。”
“比如我们要做14纳米芯片，可以把设计的芯片电路图案拆开，就得到了两份28纳米间隔的电路图案，分两次把它们刻在硅片上，就会形成完整的14纳米芯片电路图案，就类似于我们龙国的太极图，一阴一阳互补的意思。”
“因为是两块芯片掩膜版，所以要给双倍的流片费用。”
陈星大致听明白了，这个多重曝光技术就相于要印刷一个ab字母的组合图案。
第一步先把ab拆开，得到a与b两個图案，然后将它们分别制作光掩膜版，紧接着用第一块a字母的掩膜版在硅片上刻了a，再用b字母的掩膜版在硅片上刻上b，最终得到所需要的ab组合图案。
八个字概括就是，精度不够，工序来凑。
“要花两倍的流片费用，高总，14纳米的……”